试分析在背沟道阻挡结构的第二次光刻中，采用了背曝光为什么还要采用一次曝光？直接使用一次曝光不行吗？
第1题：
光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。
第2题：
简述背沟道阻挡结构的优缺点。
第3题：
X线机中设置容量保护电路的目的是
A．防止摄影时阳极未达到额定转速而曝光
B．防止摄影时阳极未启动而曝光
C．防止一次性超容量曝光，保护高压变压器
D．防止一次性超容量曝光，保护X线管
E．防止积累性超容量曝光，保护X线管
第4题：
曝光不足败版，重新确定曝光时间可采（）
第5题：
为了获得景物层次丰富，灯光效果强烈的夜景气氛，拍摄中常采用（）的方法。
第6题：
在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。
第7题：
试分析背沟道刻蚀型的5次光刻中过孔的工艺难点。
第8题：
成像板擦除完全性的测试中，应该（）
第9题：
光刻加工的工艺过程为（）
第10题：
在曝光因子的公式中，背电流、曝光时间和焦距三者的关系是（）。