光学光刻机主要有()等几种。非光学光刻机主要有()。

题目
填空题
光学光刻机主要有()等几种。非光学光刻机主要有()。
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相似问题和答案

第1题:

制造平板显示器的分步重复光刻机


答案:
解析:
8486.3031

第2题:

非接触式测量仪表主要有()。

  • A、光学高温计
  • B、全辐射式高温计
  • C、光电高温计
  • D、膨胀式温度计

正确答案:A,B,C

第3题:

激光唱头主要有()组成。

A、光学系统

B、光学和聚焦控制系统

C、光学和轨迹控制系统

D、光学和伺服系统


参考答案:D

第4题:

成型磨削主要有()磨削法等。

  • A、成型砂轮
  • B、夹具
  • C、光学曲线
  • D、自动控制
  • E、数控成型

正确答案:A,B,C,E

第5题:

上海研制发明的光刻机使得PET-CT的价格下降了一半。


正确答案:错误

第6题:

根据曝光方式的不同,光学光刻机可以分成几类?各有什么优缺点?


正确答案: 根据曝光方式不同光学光刻机主要分为三种:接触式,接近式,投影式。接触式:接触式光刻机是最简单的光刻机,曝光时,掩模压在涂有光刻胶的晶圆片上。主要优点:设备简单,分辨率高,没有衍射效应主要缺点:掩模版与涂有光刻胶的晶圆片直接接触,每次接触都会在晶圆片和掩模版上产生缺陷,降低掩模版使用寿命,成品率低,不适合大规模生产。接触式光刻机一般仅限用于能容忍较高缺陷水平的器件研究或其他方面的应用。接近式:接近式光刻机是掩模版同光刻胶间隔10~50μm,所以缺陷大大减少。主要优点:避免晶圆片与掩模直接接触,缺陷少。主要缺点:分辨率下降,存在衍射效应。
投影式:现今硅片光学曝光最主要的方法是投影式曝光。一般光学系统将光刻版上的图像缩小4x或5x倍,聚焦并与硅片上已有的图形对准后曝光,每次曝光一小部分,曝完一个图形后,硅片移动到下一个曝光位置继续对准曝光。主要优点:有接触式的分辨率,但不产生缺陷常用投影光刻机系统的类型有扫描光刻机、分步重复光刻机和扫描分步重复光刻机等。

第7题:

解释扫描投影光刻机是怎样工作的?扫描投影光刻机努力解决什么问题?


正确答案:扫描投影光刻机的概念是利用反射镜系统把有1:1图像的整个掩膜图形投影到硅片表面,其原理是,紫外光线通过一个狭缝聚焦在硅片上,能够获得均匀的光源,掩膜版和带胶硅片被放置在扫描架上,并且一致的通过窄紫外光束对硅片上的光刻胶曝光 由于发生扫描运动,掩膜版图像最终被光刻在硅片表面。
扫描光刻机主要挑战是制造良好的包括硅片上所有芯片的一倍掩膜版。

第8题:

汽车光学四轮定位仪主要有()几种。

A、红外线测量型

B、超声破测量型

C、无线蓝牙型

D、激光测量型


参考答案:AD

第9题:

光学仪器的本领主要有哪几个?


正确答案:光学仪器的本领主要有放大本领、聚光本领和分辨本领。

第10题:

显微镜的光学部分主要有:()()()()


正确答案:反光镜;聚光器;物镜;目镜