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简述太阳能电池片制造PECVD的目的及原理？

题目
问答题
简述太阳能电池片制造PECVD的目的及原理？
参考答案和解析
正确答案： 目的：在太阳电池表面沉积深蓝色减反膜-SiN膜。
P.ECVD技术原理：是利用低温等离子体作能量源，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜。
解析： 暂无解析
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第1题：

简述炭片调压器的调压原理及特点。


正确答案:炭片调压器是在发电机的激磁电路中串入一个由炭柱电阻组成的可变电阻进行调压的。当发电机电压升高时，电磁铁的电磁吸力增大，衔铁移动使炭柱拉松，炭柱电阻增大，激磁电流减小，从而使发电机电压下降；反之则使炭柱压紧，电阻减小，激磁电流增大，发电机电压升高。其主要特点是体积大，调压精度低，稳定性差。

第2题：

简述PECVD设备的特点。


正确答案:P.ECVD设备的优点：
1）可以大面积均匀成膜、生长性好、能在较低的温度下形成致密的薄膜；
2）可防止热产生的损伤及相互材料的扩散；
3）可生长需要低温成膜及及反应速度慢的薄膜；
4）设备内的平行电极方便实现大面积化。

第3题：

简述橡胶软密封闸阀的制造原理。


参考答案：在阀板上包上一层橡胶，使阀板通过表面橡胶与阀体接触，形成斜面密封和端面密封，取得了良好的密封效果。

第4题：

简述太阳能电池片制造PECVD的目的及原理？


正确答案:目的：在太阳电池表面沉积深蓝色减反膜-SiN膜。
P.ECVD技术原理：是利用低温等离子体作能量源，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜。

第5题：

电池片局部点较正常情况下更亮，此现象为（）

  • A、PECVD反
  • B、亮斑
  • C、灰斑
  • D、绒丝

正确答案:B

第6题：

简述PECVD薄膜沉积的原理。


正确答案:薄膜的沉积原理包括三个基本的过程：
1）等离子体反应，是指等离子体通过与具有能量的电子、离子或者基团等粒子碰撞，使通入到反应室中的气体分子分解的过程。其中等离子体包括自由基、原子和分子等中性粒子，以及离子和电子等非中性粒子。
2）输送粒子到基板表面，等离子体产生的粒子以扩散方式或离子加速的形式输运到基板表面。中性粒子受浓度梯度的驱动以扩散方式输运到基板表面，阳离子受等离子和基板间的电位差驱动而离子加速运动到基板表面。
3）在表面发生反应，当粒子达到基板表面时，通过一系列吸附、迁移、反应，以及中间产物的解吸附过程形成要沉积的薄膜。衬底温度对每一步都是致关重要的。

第7题：

简述循环水加酸处理的目的及原理？


正确答案:1、目的：是将水中碳酸盐硬度，提高浓缩倍率。
2、原理：将碳酸盐转变成溶解度较大的硫酸盐，其反应如下：Ca（HCO3）2+H2SO4→CaSO4+H2O+2CO2

第8题：

简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？


正确答案: 1.光刻是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去并得到所需图形的工艺。
2.光刻的重要性是在二氧化硅或金属薄膜上面刻蚀出与掩膜版完全对应的几何图形，从而实现选择性扩散和金属薄膜布线的目的，它是晶圆加工过程的中心，为后面的刻蚀和离子注入做准备。决定了芯片的性能，成品率，可靠性。

第9题：

太阳能电池的基本结构包括（）、P层、N层以及减反射膜。263、太阳能电池的基本原理是（）。


正确答案:电极；光生伏特效应

第10题：

写出太阳能电池片的生产工艺制造过程？


正确答案:来料检验——清洗制绒面——扩散（制P/N结）——（周边）刻蚀——PECVD（镀减反射膜）——丝网印刷（正负电极）——烧结——分类检测——包装入库

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