描述在硅片厂中使用的去离子水的概念。

题目

描述在硅片厂中使用的去离子水的概念。

参考答案和解析
正确答案:去离子水:在半导体制造过程中广泛使用的溶剂,在它里面没有任何导电的离子。DI Water的PH值为7,既不是酸也不是碱,是中性的。它能够溶解其他物质,包括许多离子化合物和供价化合物。当水分子(H2O)溶解离子化合物时,它们通过克服离子间离子键使离子分离,然后包围离子,最后扩散到液体中。
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相似问题和答案

第1题:

在OLAP中,描述人们观察数据的特定角度的概念是【 】。


正确答案:维
维 解析:OLAP工具是针对特定问题的联机数据访问与分析。它通过多维的方式对数据进行分析、查询和报表。维是人们观察数据的特定角度。

第2题:

在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么?


正确答案:一、将掩膜版图案转移到硅片表面顶层的光刻胶中
二、在后续工艺中,保护下面的材料

第3题:

去离子水在化妆品中起()和()的作用,是经过()处理的水。


参考答案:稀释;溶解;紫外线照射

第4题:

例举硅片制造厂房中的7种玷污源。


正确答案:硅片制造厂房中的七中沾污源:
(1)空气:净化级别标定了净化间的空气质量级别,它是由净化室空气中的颗粒尺寸和密度表征的;
(2)人:人是颗粒的产生者,人员持续不断的进出净化间,是净化间沾污的最大来源;
(3)厂房:为了是半导体制造在一个超洁净的环境中进行,有必要采用系统方法来控制净化间区域的输入和输出;
(4)水:需要大量高质量、超纯去离子水,城市用水含有大量的沾污以致不能用于硅片生产。去离子水是硅片生产中用得最多的化学品
(5)工艺用化学品:为了保证成功的器件成品率和性能,半导体工艺所用的液态化学品必须不含沾污;
(6)工艺气体:气体流经提纯器和气体过滤器以去除杂质和颗粒;
(7)生产设备:用来制造半导体硅片的生产设备是硅片生产中最大的颗粒来源。

第5题:

在分析工作中,若试剂都选用G.R.级的,则不易使用普通的蒸馏水或去离子水,而应使用经两次蒸馏制得的重蒸馏水。()


正确答案:正确

第6题:

在DBS中,用户使用的数据视图用( )描述,它是用户与DBS之间的接口。

A.外模式

B.存储模式

C.内模式

D.概念模式


正确答案:A

第7题:

变压器的铁心,使用导磁性能很好的硅片叠装的,并组成闭合的()。


正确答案:磁路

第8题:

“要向硅片挑战,DNA还有很长的路要走”的意思是( )。

A.DNA的计算速度远远落后于硅片

B.硅片的工作效率低于DNA

C.DNA的配置不如硅片

D.DNA蕴含的信息不如硅片蕴含的信息多


正确答案:A
A【解析】由第三段内容知BD两项内容是错误的,C项的内容无法从短文中获知;故正确答案为A。

第9题:

什么是外延层?为什么硅片上要使用外延层?


正确答案:外延层是指在硅的外延中以硅基片为籽晶生长一薄膜层,新的外延层会复制硅片的晶体结构,并且结构比原硅片更加规则。外延为器件设计者在优化器件性能方面提供了很大的灵活性,例如可以控制外延层掺杂厚度、浓度、轮廓,而这些因素与硅片衬底无关的,这种控制可以通过外延生长过程中的掺杂来实现。外延层还可以减少CMOS器件中的闩锁效应。

第10题:

什么是硅化物?难熔金属硅化物在硅片制造业中重要的原因是什么?


正确答案:硅化物是难熔金属与硅反应形成的金属化合物,是一种具有热稳定性的金属化合物,并且在硅/难熔金属的分界面具有低的电阻率。
难熔金属硅化物的优点和其作用:
1、降低接触电阻
2、作为金属与有源层的粘合剂
3、高温稳定性好,抗电迁移性能好
4、可直接在多晶硅上淀积难熔金属,经加温处理形成硅化物,工艺与现有硅栅工艺兼容