光学光刻机的主要曝光光线的是波长为()的g线和()的i线,适合1微米以上特征尺寸的光刻。常用()的KrF和()的ArF准

题目
填空题
光学光刻机的主要曝光光线的是波长为()的g线和()的i线,适合1微米以上特征尺寸的光刻。常用()的KrF和()的ArF准分子激光做1微米以下特征尺寸的光刻光源。
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相似问题和答案

第1题:

目前光纤通信使用的波长范围可分为短波长段和长波长段,短波长段是指( )。

A.0.85微米

B.1.31微米

C.1.55微米

D.1.85微米


正确答案:A

第2题:

下列关于X线物理特征的叙述,正确的是

A.X线是一种波长很短的电磁波

B.X线的波长范围为0.0006~50nm

C.X线诊断最常用的X线波长范围是0.008~0.031nm(相当于40~150伏电压产生的X线)

D.在电磁波谱中,X线居于γ射线与紫外线之间,为不可见光

E.X线的波长比可见光的波长要长得多


正确答案:ABCD

第3题:

热射线的波长一般为()

A、<0.4微米

B、介于0.4微米和1000微米之间

C、>1000微米

D、越长越好


参考答案:B

第4题:

解释扫描投影光刻机是怎样工作的?扫描投影光刻机努力解决什么问题?


正确答案:扫描投影光刻机的概念是利用反射镜系统把有1:1图像的整个掩膜图形投影到硅片表面,其原理是,紫外光线通过一个狭缝聚焦在硅片上,能够获得均匀的光源,掩膜版和带胶硅片被放置在扫描架上,并且一致的通过窄紫外光束对硅片上的光刻胶曝光 由于发生扫描运动,掩膜版图像最终被光刻在硅片表面。
扫描光刻机主要挑战是制造良好的包括硅片上所有芯片的一倍掩膜版。

第5题:

制造平板显示器的分步重复光刻机


答案:
解析:
8486.3031

第6题:

以下叙述不正确是的()。

A.人眼可见光的波长范围是380-780毫微米。

B.波长短于380毫微米的光人眼看不见。

C.波长长于780毫微米的光人眼看不见。

D.视力好的人能看到波长范围在380-780毫微米以外的光线。


正确答案:D

第7题:

图2-1为石英光纤的损耗谱,其中的三个低损耗波长依次为图中的 (1) 、 (2) 和 (3) ,有两处损耗峰的原因是 (4) 。目前,DWDM传输最常用的是 (5) 波段,对应于 (6) 微米窗口。常规型单模光纤(G,652光纤)的零色散波长在 (7) 微米附近,而色散位移光纤(G.653光纤)的零色散波长移到了 (8) 微米附近。

图2-1 石英光纤的损耗谱


正确答案:
(1)0.85μm
(2)1.30μm
(3)1.55μm
(4)OH-吸收
(5)C
(6)1.55μm
(7)1.30μm
(8)1.55μm

第8题:

X线照片某处对入射光线吸收率为90%,此处的光学密度值为A.0.1B.0.9C.1.OSXB

X线照片某处对入射光线吸收率为90%,此处的光学密度值为

A.0.1

B.0.9

C.1.O

D.2.0

E.3.0


正确答案:C
透过观片灯光10%的照片密度值是l.0。

第9题:

根据曝光方式的不同,光学光刻机可以分成几类?各有什么优缺点?


正确答案: 根据曝光方式不同光学光刻机主要分为三种:接触式,接近式,投影式。接触式:接触式光刻机是最简单的光刻机,曝光时,掩模压在涂有光刻胶的晶圆片上。主要优点:设备简单,分辨率高,没有衍射效应主要缺点:掩模版与涂有光刻胶的晶圆片直接接触,每次接触都会在晶圆片和掩模版上产生缺陷,降低掩模版使用寿命,成品率低,不适合大规模生产。接触式光刻机一般仅限用于能容忍较高缺陷水平的器件研究或其他方面的应用。接近式:接近式光刻机是掩模版同光刻胶间隔10~50μm,所以缺陷大大减少。主要优点:避免晶圆片与掩模直接接触,缺陷少。主要缺点:分辨率下降,存在衍射效应。
投影式:现今硅片光学曝光最主要的方法是投影式曝光。一般光学系统将光刻版上的图像缩小4x或5x倍,聚焦并与硅片上已有的图形对准后曝光,每次曝光一小部分,曝完一个图形后,硅片移动到下一个曝光位置继续对准曝光。主要优点:有接触式的分辨率,但不产生缺陷常用投影光刻机系统的类型有扫描光刻机、分步重复光刻机和扫描分步重复光刻机等。

第10题:

上海研制发明的光刻机使得PET-CT的价格下降了一半。


正确答案:错误