常规集成电路平面制造工艺主要由()、()、()、()、()等工艺手段组成。

题目
填空题
常规集成电路平面制造工艺主要由()、()、()、()、()等工艺手段组成。
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第1题:

下列不属于根据制造工艺的不同对集成电路分类的是()。

A、膜集成电路

B、半导体集成电路

C、混合集成电路

D、模拟集成电路


参考答案:D

第2题:

在大规模集成电路的制造中,更多采用的是MOS工艺集成电路,而不是双极型集成电路。


正确答案:正确

第3题:

广义的电子制造工艺包括()与电子产品制造工艺两个部分。

A.常规电子制造工艺

B.基础电子制造工艺

C.一般电子制造工艺

D.低级电子制造工艺


参考答案:B

第4题:

()是制造贴膜产品的重要手段。

  • A、烘干工艺
  • B、层压工艺
  • C、平整工艺
  • D、低压工艺

正确答案:B

第5题:

按照制造工艺可分为半导体集成电路、薄膜集成电路和()集成电路。

  • A、数字
  • B、厚膜
  • C、小规模
  • D、专用

正确答案:B

第6题:

煤炭、矿石出口装卸工艺主要由()、()、()三个工艺环节组成。


正确答案:卸火车作业;堆场作业;装船作业

第7题:

采煤工艺主要由()五个工序组成。


正确答案:破煤、装煤、运煤、支护、采空区处理

第8题:

工艺美的获得主要是依靠制造工艺和装饰工艺两种手段。()

此题为判断题(对,错)。


参考答案:√

第9题:

按制造工艺集成电路分为()。

  • A、半导体集成电路
  • B、TTL集成电路
  • C、厚膜集成电路
  • D、薄膜集成电路
  • E、CMOS集成电路

正确答案:A,C,D

第10题:

集成电路按照制造工艺可分为()。

  • A、半导体集成电路
  • B、薄膜集成电路
  • C、数字集成电路
  • D、厚膜集成电路

正确答案:A,B,D