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一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏

题目

一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）

  • A、不做处理，让患者把义齿戴走
  • B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
  • C、腭杆组织面缓冲
  • D、取下腭杆
  • E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
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第1题：

单选题
患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）
A

取下腭杆

B

腭杆组织面缓冲

C

腭杆组织面加自凝树脂重衬

D

不做任何处理

E

取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆


正确答案： E
解析： 暂无解析

第2题：

单选题
一患者上颌局部义齿修复，义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是下列哪项？（　　）
A

取下腭杆

B

腭杆组织面做缓冲

C

腭杆组织面加自凝树脂重衬

D

不做任何处理

E

取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆


正确答案： B
解析：
可摘局部义齿的大连接体应该与承托区黏膜清接触，离开腭黏膜2mm，会导致在行使功能时出现义齿的食物嵌塞及义齿移位，为了修理后的腭杆与组织面密合，应该先去除腭杆，把义齿戴入患者口中后重新取印模，在模型上重新加腭杆。

第3题：

单选题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法为（　　）。
A

腭杆组织面加自凝树脂重衬

B

不做处理，让患者将义齿戴走

C

腭杆组织面缓冲

D

取下腭杆

E

取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆


正确答案： D
解析：
腭杆与粘膜间间隙过大，患者感觉不舒适，且容易嵌塞食物，应取下重新制作。

第4题：

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是（）

  • A、取下腭杆
  • B、腭杆组织面做缓冲
  • C、腭杆组织面加自凝树脂重衬
  • D、不做任何处理
  • E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

正确答案:E

第5题：

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。

  • A、取下腭杆
  • B、腭杆组织面缓冲
  • C、腭杆组织面加自凝树脂重衬
  • D、不做任何处理
  • E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

正确答案:E

第6题：

患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是

A、取下腭杆

B、腭杆组织面缓冲

C、腭杆组织面加自凝树脂重衬

D、不做任何处理

E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆


参考答案：E

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