问题：口外支抗类矫治器支抗部件不包括下列哪项（）A、颈带B、头帽C、颏兜D、面具和面架E、橡皮圈
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问题：舌习惯矫治器舌刺，在息止颌位时应延伸至（）A、下前牙舌侧窝B、下前牙舌隆突C、下前牙舌侧黏膜处D、下前牙舌尖处E、上前牙舌侧
问题：关于Spee曲线的说法，以下错误的是（）A、Spee曲线的定义为连接下颌切牙切缘、尖牙牙尖、前磨牙颊尖以及磨牙近远中颊尖，形成从前向后凹向上的曲线B、临床上测量Spee曲线的深度，以直尺放置于模型中切牙切端及最后一个磨牙的远中颊尖之间，测量各牙尖到直尺的垂直距离，最深者为Spee曲线的深度C、整平Spee曲线可通过压低前牙、伸长后牙或两者兼有D、正常的Spee曲线较为平直，深度约为0～2mmE、整平Spee曲线不需额外间隙
问题：下列哪项不是临床上加强支抗的方法（）A、增加用作支抗牙齿的数目B、将支抗牙连成一整体而加强支抗作用C、用口外唇弓来增强支抗D、使用方丝弓矫治技术E、Nance弓
问题：下列哪项不属于塑料基托的优点（）A、色泽美观B、操作简易、经济C、不易折断，基托薄、小，感觉舒适D、制作设备简单E、便于义齿修补和加添
问题：患者男，50岁。拔除下颌第一磨牙后，新鲜血液充盈牙槽窝，但不能淹没牙根间隔。正确的处理是（）A、缝合拔牙创B、咬除根间隔C、碘仿纱布覆盖D、明胶海绵覆盖E、任其吸收
问题：以下为加强支抗的措施是（）A、增加支抗牙的数目B、将支抗牙连成一整体C、口外弓等口外支抗的应用D、上颌运用横腭杆或Nance弓E、以上皆是
问题：患者，男性，35岁，4天前出现右上前牙持续性剧烈跳痛，昨日有所缓解，但自觉右侧下眼睑至鼻旁颧部肿胀明显，皮肤红、热。此时可诊断为（）A、上唇痈B、急性上颌窦炎C、眶下淋巴结炎D、眶下间隙感染E、上颌骨中央性颌骨骨髓炎
问题：颈总动脉在哪一平面分为颈外动脉和颈内动脉（）A、舌骨大角平面B、舌骨平面C、环状软骨平面D、甲状软骨上缘平面E、甲状软骨下缘平面
问题：活动矫治器的优点为（）A、作用力单一B、异物感小C、固定良好D、体积小、较舒适E、不影响美观
问题：颅部和面部的容量在出生时的比例为（）A、8：1B、6：1C、4：1D、2：1E、1：1
问题：咀嚼肌的神经支配来自于（）A、面神经颊支B、面神经颧支C、上颌神经D、下颌神经前股纤维E、下颌神经后股纤维
问题：在上颌前牙位根尖片上，不可能看到的颌骨解剖标志是（）A、切牙孔B、鼻中隔C、鼻腔D、上颌结节E、腭中缝
问题：牙体缺损修复过程中，可能导致牙髓损害的因素包括（）A、牙体制备B、取印模C、临时冠制备D、预备体消毒E、以上均是
问题：邻面板不具备下列哪项作用（）A、引导就位B、减少义齿对基牙损害C、防止食物嵌塞D、增强义齿强度E、降低余留牙的龋病发生率
问题：口外上颌前方牵引矫治器的目的是（）A、利用口外力促进生长发育期的上颌骨发育B、促进成人上颌骨发育C、限制成人上颌骨发育D、限制生长发育期上颌骨发育E、只能使上前牙唇倾
问题：邻面去釉矫治一般单侧去除邻面釉质厚度为（）A、0.1mmB、0.25mmC、0.5mmD、1.0mmE、1.5mm
问题：Ⅱ度深覆盖是指上下前牙切端前后向距离为（）A、0～3mmB、3～5mmC、5～8mmD、5mm以上E、8mm以上
问题：取印模时，被动肌功能修整方法是（）A、轻拉唇颊部，在上颌向前、向下，下颌向前向上B、轻拉唇颊部，在上颌向后、向下，下颌向后向上C、轻拉唇颊部，在上颌向前、向上，下颌向前向下D、轻拉唇颊部，在上颌向后、向上，下颌向后向下E、嘱患者轻轻活动唇颊部，并做吞咽、伸舌等动作
问题：切牙舌向移动1mm需要间隙（）A、2.5mmB、3mmC、2mmD、1mmE、1.5mm
