被控对象的容量滞后和纯滞后不大,负荷常有较大波动,工艺又有无余差要求时应采用()
第1题:
A、容量滞后
B、滞后现象
C、传递滞后
D、滞后时间
第2题:
被控对象的容量滞后即纯滞后。
第3题:
A.P调节
B.PD调节
C.PID调节
D.PI调节
第4题:
联苯炉控制仪表参数设定时,微分调节主要用来克服调节对象的()。
第5题:
调节对象的容量滞后和纯滞后不大,负荷常有较大波动,工艺又有无差要求时,应采用()。
第6题:
由于微分调节规律有超前作用,因此调节器加入微分作用主要是用来()
第7题:
在选择控制规律时,对于控制通道滞后小,负荷变化不大,工艺要求较高,被控变量不可以有余差的对象,可选用()控制规律。
第8题:
调节对象的容量滞后和纯滞后不大,负荷常有较大波动,工艺又有无差要求时,应采用()。
(1)P调节
(2)PD调节
(3)PID调节
(4)PI调节
第9题:
控制器加入微分作用是用来()。
第10题:
在描述对象特性参数的滞后时间时,下列说法错误的是()