镀膜镜片表面产生杂质,以下哪些是可能原因?()A、材料本身不纯,有杂质B、预熔时没熔透,镀膜时有飞溅C、光斑打到边缘或外边,将其它物质镀到镜片上D、坩埚盖板太脏,预熔时有膜料残渣掉进坩埚

题目

镀膜镜片表面产生杂质,以下哪些是可能原因?()

  • A、材料本身不纯,有杂质
  • B、预熔时没熔透,镀膜时有飞溅
  • C、光斑打到边缘或外边,将其它物质镀到镜片上
  • D、坩埚盖板太脏,预熔时有膜料残渣掉进坩埚
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第1题:

关于镜片镀耐磨损膜层的说法不合适的是()。

A.镀膜采用的是浸泡法

B.涂层的厚度为3~5μm

C.涂膜层的成分以有机硅为主

D.用石英材料的镀膜层目前为最佳膜层


参考答案:D

第2题:

在镀膜前先需核对所镀镜片与流程卡是否相符。


正确答案:正确

第3题:

某技师使用天津产BGL-50G型高频铸造机铸造钴铬支架,在坩埚内放适量合金,将焙烧好的铸圈放在"V"形托架上,对准铸道口,调整配重,熔解时合金飞溅,铸造时铸道口上移,刚按停止键就打开机盖,合金飞溅可能的原因是

A、合金熔点太低

B、合金里有杂质

C、坩埚混用

D、合金熔点太高

E、坩埚有裂缝


参考答案:C

第4题:

直接法纺丝生产线首次开车时,最初从熔体管道中排出的熔体为()。

  • A、经过预结晶的熔体
  • B、含杂质较多的熔体
  • C、经过增粘的熔体
  • D、低粘度熔体

正确答案:B,D

第5题:

对镀膜材料进行预熔的目的是()。

  • A、去除材料内部的杂质
  • B、改变材料的表面形状
  • C、减少材料的放气
  • D、提高材料的温度

正确答案:A,C

第6题:

手动预熔材料时,应注意下列哪些事项?()

  • A、真空室内达到一定的真空度,开始加电流预熔材料
  • B、光斑不能打到坩埚边上,更不能打到坩埚外边
  • C、预熔时的最高电流一定要高于蒸发时的电流
  • D、不同材料不同的预熔电流

正确答案:A,B,C,D

第7题:

在镀膜之前为什么要预熔材料?


正确答案: 在镀膜之前要把材料预熔透彻,主要是为了材料进行放气,消除材料中其它成份,保持镀膜不产生飞溅和保持真空度稳定。

第8题:

物质中混有杂质时通常导致()

A、熔点上升

B、熔点下降

C、熔矩变窄

D、熔矩变宽


本题答案:B, D

第9题:

将盛有铝液的坩埚置于()真空室内,在一定温度下镇静(),使熔入铝液中的气体及非金属杂质析出的精炼方法叫真空精炼。


正确答案:密闭的;一定时间

第10题:

眼镜片镀膜的方法包括()。真空镀膜工艺设备为真空镀膜机,通常选择()和()作为加热的金属,不选择铁。化学镀膜法通常用酸蚀法镀增透膜,用还原法镀反射膜。常用()。


正确答案:真空镀膜法和化学镀膜法;金,银;铝;硅酸乙酯镀增透膜