利用化学气相沉积法和物理气相沉积法均可以获得非晶硅膜。
第1题：
目前常用刀具涂层方法有（）。
第2题：
生产超细颗粒的方法中PVD和CVD法分别指（）
第3题：
目前实验室和工业上经常采用的制备超细粉体材料的方法是()
A、气相法
B、固相法
C、液相法
D、化学气相沉积法
第4题：
目前正在广泛研究的有化学气相沉积法、（）、固相结晶、等。
第5题：
在光纤的制备方法中，VAD法是指（）。
第6题：
刀具表面涂层技术是一种优质的（），它是在普通高速钢和硬质合金刀片表面，采用化学气相沉积或者物理气相沉积的工艺方法，覆盖一层高硬度难融金属化合物。
第7题：
利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。
第8题：
高速钢表面涂层工艺与硬质合金表面涂层技术类同，有（）两种。
第9题：
在多晶硅电池片上用等离子体进行的化学气相沉积法生产的氮化硅膜会产生哪两种效果？
第10题：
下面不是制造非晶硅太阳电池常用的方法是（）。