有限表面源扩散的杂质分布服从（）分布。

第1题：

如果总体服从正态分布，则样本均值的抽样分布也服从正态分布；如果总体不服从正态分布，则大样本情况下均值的抽样分布仍然服从正态分布。（）

A对

B错

第2题：

恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为（）分布。

• A、高斯
• B、余误差
• C、指数

第3题：

第4题：

假设总体服从均匀分布，从此总体中抽取容量为40的样本均值的抽样分布（）。

• A、服从均匀分布
• B、近似服从正态分布
• C、不可能服从正态分布
• D、无法确定

第5题：

在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质，在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源，不再有新的杂质补充，这种扩散方式称为：（）

第6题：

恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布？（）

• A、高斯函数
• B、余误差函数
• C、指数函数
• D、线性函数

第7题：

以P₂O₅为例，多晶硅中杂质扩散的方式及分布情况。

第8题：

答案：A

解析：

第9题：

如果总体服从正态分布，则样本均值也服从正态分布；如果总体不服从正态分布，则样本均值也不服从正态分布。（）

第10题：

对于服从任意分布的总体，样本均值的抽样分布（）。

• A、对任意的样本容量都可能服从正态分布
• B、样本容量很大时可能服从正态分布
• C、对任意的样本容量都服从正态分布
• D、当样本容量很大是服从正态分布