第1题：
工业废水处理的吸附法中，吸附过程影响着吸附速度，影响吸附速度的过程有（ ）。
A．吸附质向活性炭颗粒表面的扩散过程
B．吸附质在活性炭颗粒内部孔隙间的扩散阶段
C．吸附在活性炭颗粒内部孔隙表面上的吸附反应阶段
D．吸附在活性炭颗粒内部孔隙表面上的扩散阶段
第2题：
多相催化反应中，作用物从催化剂外表面扩散进入孔隙内部的过程叫做（）
第3题：
此题为判断题(对，错)。
第4题：
边界摩擦是指接触表面吸附着一层很薄的边界膜的摩擦现象，接触情况介于干摩擦与流体摩擦两种状态之间。
第5题：
硅晶片上之所以可以产生薄膜，出始于布满在晶片表面的许多气体分子或其它粒子，它们主要是通过（）到达晶片表面的。
第6题：
A、外扩散
B、表面扩散
C、内扩散
D、孔扩散
第7题：
晶片表面上的粒子是通过（）到达晶片的表面。
第8题：
A、表面张力升高，正吸附
B、表面张力降低，正吸附
C、表面张力升高，负吸附
D、表面张力显著降低，正吸附
答案应为B，表面活性物质可使溶液的表面张力降低，为正吸附，能使溶液表面张力显著降低的成为表面活性剂。
第9题：
由于表面吸附引起的共沉淀，吸附层主要吸附的离子是（），扩散层中主要吸附的离子是（）。
第10题：
胶粒带电的原因主要有下面两种情况，它们是（）