第1题:
某一个参数的CPK<1.3,可使用什么样的图进行监控?()
第2题:
采用Histogram进行监控的参数在什么条件下可转为使用X-R Chart进行监控?
第3题:
A.CtR+C
B.CtR+D
CtR+V
D.CtR+X
第4题:
Lafe使用Product X-R Chart进行监控的参数,一般要求CPK>=1.33,请问这有什么好处?
第5题:
监控装置在()只能进行参数显示操作,不能修改。
第6题:
某产品工序参数Qualify时CP=2,CPU=1.8,CPL=1.2则该工序参数的CPK等于()。
第7题:
在进行机构参数化建模时,首先创建了若干Point,请问Point与Marker有何不同?
第8题:
低压成套开关设备生产企业必须选择某些过程参数和产品特性进行监控。
第9题:
5520 AMS上的SNTP参数为全局性的且当NE上的监控启动时,将被应用到该NE上。NE层的SNTP参数专为NE而设,可以用于在启动监控后忽略全局参数的影响。
第10题:
若某工序参数CP>2而CPK<1,请问此工序有什么问题?