临界晶核形核功

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临界晶核形核功
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第1题:

结晶过程是()的过程。

  • A、形核及晶核长大
  • B、形核及晶核转变
  • C、晶核及质点长大
  • D、晶核及质点转变

正确答案:A

第2题:

非均匀形核所需要的形核功大于均匀形核所需要的形核功。


正确答案:错误

第3题:

晶核的形成有()方式。

  • A、自发形核(异质形核)
  • B、非自发形核(异质形核)
  • C、自发形核(均质形核)
  • D、非自发形核(均质形核)

正确答案:B,C

第4题:

其它条件不变的情况下,提高过冷度,下面哪个现象不会发生()

  • A、可能出现的最大晶坯尺寸变大
  • B、临界晶核半径变大
  • C、形核功减小
  • D、形核率增加

正确答案:B

第5题:

为何从球冠形晶核模型推导出的临界晶核半径与实际偏差很大?更符合实际的模型是什么样的?


正确答案: 原因:薄膜实际形核时临界核很小,不能形成球冠的形状,宏观的表面能、界面能、体积自由能的统计数据在此处不再有意义。
模型:原子聚集理论。把原子团看成宏观分子,研究原子团内的键合和结合能与临界核形状、大小和成核速率的关系。可以认为在基板温度很低时,单个原子就是临界核,随基板温度的升高,临界核逐渐增大,在临界核基础上原子团再加一个原子就可变为稳定核。假设原子结合到原子集团后其势能降低,降低值就是其在原子集团中的键能,基于该假设,可推到出二维或三维原子集团的形核速率。此模型在许多实验条件下都适用。

第6题:

下述说法哪些正确?在相同过冷度的条件下,()

  • A、非均匀形核比均匀形核的形核率高;
  • B、均匀形核与非均匀形核具有相同的临界晶核半径;
  • C、非均匀形核比均匀形核需要的形核功小;
  • D、非均匀形核比均匀形核的临界晶核体积小。

正确答案:A,B,C,D

第7题:

金属的再结晶转变,也要经历形核与晶核长大的过程。


正确答案:正确

第8题:

只依靠液体本身在一定的过冷条件下形成的晶核过程叫做()。

  • A、自发形核
  • B、非自发形核
  • C、结晶
  • D、形核

正确答案:A

第9题:

随着过冷度的增大,晶核形核率N(),长大率G()。


正确答案:增大;增大

第10题:

非均匀形核时晶核与基底之间的接触角越大,其促进非均匀形核的作用越大。


正确答案:错误

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