简述蒸镀与溅射的区别

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简述蒸镀与溅射的区别
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相似问题和答案

第1题:

()是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。

  • A、蒸镀
  • B、离子注入
  • C、溅射
  • D、沉积

正确答案:C

第2题:

用高能粒子从某种物质的表面撞击出原子的物理过程叫()。

  • A、蒸镀
  • B、离子注入
  • C、溅射
  • D、沉积

正确答案:C

第3题:

光学镜片表面耐磨损膜的处理方法主要是()。

A.提升法

B.真空电镀法

C.阴极溅射法

D.离子镀法


参考答案:A

第4题:

树脂镜片镀耐磨损膜采用的是阴极溅射法。


正确答案:错误

第5题:

简述溅射成膜的原理,并举例说明哪种薄膜采用溅射方法成膜。


正确答案:在一定真空条件下,通过外加电、磁场的作用将惰性气体电离,用加速的离子轰击固体表面,离子和固体表面原子交换动量,使固体表面的原子离开固体并沉积在基板表面的过程。被轰击的物体是用溅射薄膜的源材料组成的固体称为靶材。
栅金属材料有工艺稳定性好的铬Cr、钼Mo、钽Ta等;源漏材料有钼/铝/钼Mo/Al/Mo、钼氮/铝镍/钼氮MoNx/AlNi/MoNx、钼/铝钕/钼Mo/AlNd/Mo等三层材料;像素电极ITO薄膜材料都采用溅射方法成膜。

第6题:

()是通过把被蒸物体加热,利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。

  • A、蒸镀
  • B、溅射
  • C、离子注入
  • D、CVD

正确答案:A

第7题:

简述真空掩膜蒸镀技术实现红绿蓝像素并置全彩色方案的工艺流程。


正确答案:1)在真空下,利用掩模板遮挡的方法,将相邻的三个像素中遮挡两个像素,在另一个像素上蒸镀红、蓝、绿其中一种发光层;
2)利用高精度的对位系统移动遮挡的掩模板,再继续蒸镀下一像素。掩膜板常采用金属材料制成。

第8题:

简述蒸镏和蒸发的区别?


正确答案:蒸镏和蒸发都是将混合液加热沸腾使之汽化,而进行组分的分离,但这二种操作的有本质是的区别。在进行蒸发的溶液中,溶质是不挥发的,经蒸发后仅除去一部分挥发性的溶剂而使溶液中溶质浓度增加,蒸发的产物是被浓缩了的溶液或固体溶质。进行蒸馏的溶液,则溶质和溶剂都具有挥发性,在蒸镏过程中两者同时变成蒸气,仅是挥发能力的不同,使混合液的组分得以分离,其蒸气冷凝液或残留液都可能是蒸馏产物。

第9题:

光学镜片表面耐磨损膜的处理方法主要是()。

  • A、提升法
  • B、真空电镀法
  • C、阴极溅射法
  • D、离子镀法

正确答案:A

第10题:

不属于磁控溅射隐透型光学显示薄膜技术的特点有()

  • A、薄膜与基底的结合力强
  • B、液晶分子列状排列
  • C、镀膜均匀,可镀大面积薄膜
  • D、透明性与玻璃接近

正确答案:B