简述常见的溅射镀膜方法

题目
问答题
简述常见的溅射镀膜方法
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相似问题和答案

第1题:

()是指每个入射离子溅射出的靶原子数。

  • A、溅射率
  • B、溅射系数
  • C、溅射效率
  • D、溅射比

正确答案:A

第2题:

从电极的结构看,溅射的方法包括()。

  • A、直流溅射
  • B、交流溅射
  • C、二级溅射
  • D、三级溅射
  • E、四级溅射

正确答案:C,D,E

第3题:

离子束加工包括( )。

A.离子束溅射去除加工

B.离子束溅射镀膜

C.离子束溅射注入

D.离子束焊接


参考答案:ABC

第4题:

简述蒸镀与溅射的区别


正确答案: 蒸镀:让材料加热气化(发射出粒子),再沉积到基片上成膜。
溅射:用离子轰击,将靶材原子打出来,再沉积到基片上成膜。

第5题:

真空蒸发镀膜方法常见加热方式有哪些?


正确答案: (1)电阻加热。蒸发源是以电阻加热并蒸发薄膜材料的方式为电阻加热。
(2)电子束加热。利用电子枪产生电子束,轰击薄膜材料使之受热蒸发。
(3)高频感应加热。盛放材料的导电坩埚的周围绕有高频线圈,当线圈中有高频电流时,坩埚中感应产生电流而升温,从而使材料受热汽化。
(4)电弧加热。被蒸发材料作阴极,耐高温的钼杆作阳极,端部呈尖状,在高真空下通电时,在两电极间有一定电压,使两电极间产生弧光放电,使阴极材料蒸发。
(5)激光加热。用激光束作为热源,使被蒸发材料汽化。
(6)对于化合物与合金材料,有闪蒸蒸发(把薄膜材料做成细小颗粒或粉末状通过一定装置使其以极小的流量逐渐进入高温蒸发源)、多源蒸发(将合金薄膜所需的元素各自置于单独的蒸发源中,同时加热,并独立控制蒸发源的温度)、反应蒸发(把活性气体导入真空室,使活性气体的原子、分子与来自蒸发原子、分子在衬底表面反应,生成所天化合物)。

第6题:

溅射的方法非常多其中包括()。

  • A、直流溅射
  • B、交流溅射
  • C、反应溅射
  • D、二级溅射
  • E、三级溅射

正确答案:A,B,C,D,E

第7题:

简述溅射成膜的原理,并举例说明哪种薄膜采用溅射方法成膜。


正确答案:在一定真空条件下,通过外加电、磁场的作用将惰性气体电离,用加速的离子轰击固体表面,离子和固体表面原子交换动量,使固体表面的原子离开固体并沉积在基板表面的过程。被轰击的物体是用溅射薄膜的源材料组成的固体称为靶材。
栅金属材料有工艺稳定性好的铬Cr、钼Mo、钽Ta等;源漏材料有钼/铝/钼Mo/Al/Mo、钼氮/铝镍/钼氮MoNx/AlNi/MoNx、钼/铝钕/钼Mo/AlNd/Mo等三层材料;像素电极ITO薄膜材料都采用溅射方法成膜。

第8题:

当玻璃幕墙采用热反射镀膜玻璃时允许使用下列哪一组?Ⅰ.在线热喷涂镀膜玻璃;Ⅱ.化学凝胶镀膜玻璃;Ⅲ.真空蒸着镀膜玻璃;Ⅳ.真空磁控阴极溅射镀膜玻璃( )

A.Ⅰ、Ⅱ
B.Ⅰ、Ⅲ
C.Ⅰ、Ⅳ
D.Ⅲ、Ⅳ

答案:C
解析:
《玻璃幕墙工程技术规范》规定:3.4.2玻璃幕墙采用阳光控制镀膜玻璃时,离线法生产的镀膜玻璃应采用真空磁控阴极溅射法生产工艺;在线法生产的镀膜玻璃应采用热喷涂法生产工艺。

第9题:

简述常见的溅射镀膜方法


正确答案: (1)辉光放电直流溅射
(2)射频溅射
(3)磁控溅射

第10题:

简述溅射镀膜的特征


正确答案: (1)溅射出来的粒子角分布取决于入射粒子的方向.
(2)从单晶靶溅射出来的粒子显示择优取向.
(3)溅射率不仅取决于入射粒子的能量,也取决于入射粒子的质量.
(4)溅射出来的粒子平均速率比热蒸发的粒子平均速率高得多.