非贵金属烤瓷桥修复，金属基底预氧化应在除气的基础上再加热至预定终点温度，在非真空状态下继续维持的时间为（）

金瓷结合界面处理恰当与否关系到金瓷结合强度，因此严格进行正确的处理才能保证PFM冠的质量PFM基底冠的打磨处理中错误的是A、用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物

B、用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物

C、打磨时用细砂针多方均匀地打磨出金瓷结合．部要求的外形

D、禁止使用橡皮轮磨光

E、用50～100μm的氧化铝喷砂

PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是A、非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜

B、贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜

C、非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜

D、非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同

E、理想的氧化膜厚度为0．2～2μm

在金-瓷修复体中，目前国内临床上最常采用的修复种类是

A、全瓷

B、贵金属烤瓷

C、非贵金属烤瓷

D、半贵金属烤瓷

E、钛合金烤瓷

金瓷基底冠桥进行氧化，是在除气的基础上再加热。至预定终点温度时在非真空状态下应继续维持

A、1～2分钟

B、3～5分钟

C、5～10分钟

D、10～12分钟

E、12～15分钟

PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是

A．非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜

B．贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜

C．巴非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜

D．非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同

E．理想的氧化膜厚度为0.2～2μm

烤瓷合金的预氧化是在除气的基础上，再加热至预定的终点温度，在非真空下继续维持

A、18～20min

B、15～17min

C、11～13min

D、5～10min

E、2～4min

金属基底冠桥的预氧化应在除气基础上再加热至预定终点温度，在非真空状态下继续维持

A．0.5～1.0min

B．1～3min

C．5～10min

D．20～30min

E．30min以上

下列贵金属烤瓷冠的特点中正确的是（ ）

A、贵金属易被氧化分解

B、化学性能较活泼，不稳定

C、非贵金属烤瓷强度高，与瓷粉结合力较贵金属强

D、内冠表面的氧化膜较非贵金属薄而致密

E、非贵金属烤瓷会发生龈染色而贵金属烤瓷不会