提高床层温度
提高触媒活性
降低床层温度
第1题：
23#触媒为何要再生（）
第2题：
23#触媒床层，积碳有何影响？怎样处理？
第3题：
此题为判断题(对，错)。
第4题：
再生器压力提高，再生床层温度下降。
第5题：
在触媒使用一段时间后，如果循环气中一氧化碳含量持续上升，为控制其含量的稳定，采用调节（）。
第6题：
23＃触媒为何要再生？
第7题：
23#触媒再生时，催化剂床层升温速率控制在（）。
第8题：
触媒使用中期，操作上要严格控制床层温度低于（）℃。
第9题：
硫化主期分两个阶段：触媒床层升到350℃—400℃，触媒床层各点温度为400℃—450℃。
第10题：
提高合成塔汽包压力，下面（）工艺参数显示上升。