全氟羧酸膜的特性有()。

第1题：

考虑氟离子选择性电极的膜特性，氟离子选择性电极使用的合适pH范围是

A．5-7

B．7-9

C．3-7

D．1-3

第2题：

氟化镧单晶膜氟离子选择性电极的膜电位的产生是由于（）

A．氟离子进入晶体膜表面的晶格缺陷而形成双电层结构

B．氟离子在晶体膜表面氧化而传递电子

C．氟离子穿透晶体膜而使膜内外氟离子产生浓度差而形成双电层结构

D．氟离子在晶体膜表面进行离子交换和扩散而形成双电层结构

第3题：

考虑氟离子选择性电极的膜特性，氟离子选择性电极使用的合适pH范围是（）。

A．1-3

B．3-7

C．7-9

D．5-7

第4题：

1、常用的离子膜有哪些

A．全氟磺酸膜

B．全氟羧酸膜

C．全氟磺酸/羧酸复合膜

D．无氟磺酸/羧酸复合膜

第5题：

常用的离子膜有哪些？

A．全氟磺酸膜

B．全氟羧酸膜

C．无氟磺酸/羧酸复合膜

D．全氟磺酸/羧酸复合膜

第6题：

左氟羧酸制备左氧氟沙星的描述正确的是（）

A．10位氟原子反应活性较9位氟原子强

B．N-甲基哌嗪的取代反应需要加热，但温度不能超过100℃

C．左氟羧酸必须反应完全

D．需要控制原料N-甲基哌嗪中哌嗪的含量

第7题：

简述以“环合酯”制备左氟羧酸的工艺控制点。

第8题：

第9题：