关于抑制性突触后电位的产生过程,正确的是()
第1题:
膜对哪种离子的通透性升高时,可产生抑制性突触后电位( )。
第2题:
产生抑制性突触后电位的主要离子基础是
A.K+
B.Na+
C.Ca2+
D.Cl-
E.Mg2+
第3题:
第4题:
第5题:
可产生抑制性突触后电位的离子基础是
A.K+
B.Na+
C.Ca2+
D.Cl—
E.Mg2+
第6题:
可产生抑制性突触后电位的离子基础是
A.K+
B.Na+
C.Ca2+
D.Cl-
E.H+
第7题:
产生抑制性突触后电位的主要离子基础是( )。
第8题:
关于抑制性突触后电位的产生,正确的叙述是()。
A.突触后膜对Ca2+K+通透性增大
B.突触后膜去极化
C.突触后膜出现超极化
D.突触后膜出现复极化
E.以上都不是
第9题:
下列关于抑制性突触后电位的叙述,正确的是
A.是局部去极化电位
B.具有"全或无"性质
C.是局部超极化电位
D.由突触前膜递质释放量减少所致
E.由突触后膜对钠通透性增加所致
第10题: