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单次曝光法

题目

单次曝光法

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第1题：

屏/片系统调制传递函数的测试方法是

A．方波测试卡曝光/微密度计扫描法

B．狭缝曝光/微密度计扫描法

C．刃边曝光/微密度计扫描法

D．感光仪曝光/微密度计扫描法

E．时间阶段曝光法/微密度计扫描法


正确答案：A

第2题：

公众号底部CPM视频广告的刊例价格是（）

  • A、核心城市40/cpm重点城市35/cpm普通城市30/cpm
  • B、核心城市150/千次曝光重点城市100/千次曝光普通城市50/千次曝光
  • C、核心城市150/千次曝光重点城市150/千次曝光普通城市50/千次曝光
  • D、核心城市180/千次曝光重点城市150/千次曝光普通城市50/千次曝光

正确答案:A

第3题：

对同一被摄对象采用若干不同的曝光量拍摄的方法称为()。

A.平均曝光法

B.括弧式曝光法

C.高光曝光模式

D.阴影曝光模式


正确答案：B

第4题：

二次曝光有什么意义？如何掌握二次曝光时间？


正确答案: 为了进一步提高经过晒版后制成的丝网印版的耐水性；耐摩擦性、耐溶剂性以及增加丝网印版的强度、牢度，提高耐印力，通常采用二次曝光法对丝网印版进行硬化处理（除二次曝光法外也有采用药物对丝网印版进行硬化处理的）。二次曝光时间通常根据丝网的实际情况来确定，包括所选用的丝网、涂膜厚度等诸多因素。一般二次曝光时间为一次曝光时间的
l一3倍左右。’
丝网印版进行硬化处理适合于大批量印刷及一次性使用的丝网印版。哪些情况下丝网印版可不进行网版硬化处理呢？首先是在小批量印刷时可不进行丝网印版硬化处理。其次是在丝网印版印刷后准备进行脱膜处理）并重新使用丝网印版的情况下，就不能进行二次曝光硬化处理，否则就会造成脱膜困难。

第5题：

试分析在背沟道阻挡结构的第二次光刻中，采用了背曝光为什么还要采用一次曝光？直接使用一次曝光不行吗？


正确答案:背曝光是一种自对准的光刻工艺，不需要掩膜版，利用栅线和栅极的金属图形做掩膜进行曝光的工艺。栅线、栅极、存储电容等有金属薄膜的地方上面的光刻胶都没有曝光，其他没有遮挡的地方都被背曝光的紫外光照到，光刻胶的性质发生改变。需要再用一次曝光，利用掩膜版掩膜把栅线和存储电容上面的光刻胶被一次曝光的紫外光照射到，留下阻挡层图像。
为了形成精确对准且能够恰好在栅极上面的i/sSiNx阻挡层小图形，采用连续两次曝光，先背面曝光再一次曝光相结合的光刻工艺。仅采用一次曝光，对版精度和图形的大小都要受到限制，工艺难度大。

第6题：

屏一片系统调制传递函数的测试方法是

A.方波测试卡曝光，微密度计扫描法

B.狭缝曝光，微密度计扫描法

C.刃边曝光，微密度计扫描法

D.感光仪曝光，微密度计扫描法

E.时间阶段曝光法，微密度计扫描法


正确答案：A
在实际临床应用中以方波测试片照射一微密度计扫描方法简单易行。最初得到的是方波响应函数，加以修正后最终取得正弦波响应函数。

第7题：

近距离治疗正确的同中心投影重建法是（）。

  • A、1张胶片，对称机架角，2次曝光
  • B、2张胶片，对称机架角，2次曝光
  • C、1张胶片，非对称机架角，1次曝光
  • D、1张胶片，非对称机架角，2次曝光
  • E、2张胶片，对称机架角，1次曝光

正确答案:A

第8题：

近距离治疗正确的同中心投影重建法是：()。

A.1张胶片，对称机架角，2次曝光

B.2张胶片，对称机架角，2次曝光

C.1张胶片，非对称机架角，1次曝光

D.1张胶片，非对称机架角，2次曝光

E.2张胶片，对称机架角，1次曝光


答案：A

第9题：

（）适合于以明亮物体为视觉中心的画面的曝光控制。

  • A、包围曝光法
  • B、阴影曝光模式
  • C、高光曝光模式
  • D、阴影曝光模式

正确答案:C

第10题：

在SL工艺中，通常为了减少固化应力导致的变形，扫描截面时往往采用（）扫描曝光的工艺

  • A、高速
  • B、单层单次
  • C、两次交叉
  • D、两次同一方向重复

正确答案:C

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