对于非晶靶，离子注入的射程分布取决于（）。
第1题：
卢瑟福背散射分析中，入射离子与靶原子碰撞的运动学因子、（）和（）是背散射分析中的三个主要参量。
第2题：
离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。
第3题：
关于电子对效应的发生几率正确的是( )
A.与物质的原子序数的平方成正比，与入射光子能量的对数成正比
B.与物质的原子序数的平方成反比，与入射光子能量的对数成正比
C.与物质的原子序数的平方成正比，与入射光子能量成正比
D.与物质的原子序数的平方成反比，与入射光子能量成正比
E.与物质的原子序数的平成正比，与入射光子能量的对数成反比
第4题：
影响物质的线衰减的因素有哪些（）
第5题：
（）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。
第6题：
Χ射线管中轰击靶产生Χ射线的高速电子的数量取决于（）
第7题：
离子注入层的深度主要取决于离子注入的（）。
第8题：
第9题：
下列哪些因素会影响临界注入量的大小：（）。
第10题：
关于电子的质量辐射阻止本领，不正确的是（）