通常由单晶棒所切割的硅片表面可能污染的杂质主要有()

题目

通常由单晶棒所切割的硅片表面可能污染的杂质主要有()

  • A、油脂,松香,蜡
  • B、有机溶剂,浓酸,强酸
  • C、硝酸,氢氟酸
  • D、盐,水
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第1题:

采用单晶硅的压阻式压力变送器采用单晶硅片为弹性元件,在单晶硅膜片上利用集成电路的工艺,在单晶硅的特定方向扩散一组()电阻,并将电阻接成桥路。

  • A、不等值
  • B、等值
  • C、线性值
  • D、非线性值

正确答案:B

第2题:

将圆柱形的单晶硅锭制备成硅片需要哪些工艺流程?


正确答案:整形处理,切片,磨片和倒角,刻蚀,抛光,清洗,硅片评估,包装。

第3题:

压阻式压力传感器是利用单晶硅的压阻效应而构成,采用单晶硅片为弹性元件。

此题为判断题(对,错)。


正确答案:√

第4题:

扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散,改变了晶片(),所以晶片才能被人们所使用。

  • A、内部的杂质分布
  • B、表面的杂质分布
  • C、整个晶体的杂质分布
  • D、内部的导电类型
  • E、表面的导电类型

正确答案:A,E

第5题:

压阻式压力传感器是利用单晶硅的压阻效果而构成,采用()为弹性元件。

  • A、应变片
  • B、压电片
  • C、弹性元件
  • D、单晶硅片

正确答案:D

第6题:

单晶片切割的质量要求有哪些?


正确答案: 晶向偏离度总厚度误差,平衡度,翘曲度等

第7题:

化学清洗中是利用硝酸的强()和强()将吸附在硅片表面的杂质除去。


正确答案:酸性;氧化性

第8题:

目前,常用的识别片段技术主要有生物化学检测、表面等离子、()、()、x-射线单晶衍射。


正确答案:磁共振;质谱

第9题:

压阻式压力传感器是利用单晶硅的电阻效应二构成,采用()为弹性元件

  • A、应变片
  • B、压电片
  • C、弹性元件
  • D、单晶硅片

正确答案:D

第10题:

单晶硅硅片的制造过程?


正确答案: 首先将用CZ法得到的单晶硅铸模用专用切割机进行切割。目前太阳能电池用的铸模,仍以生产性能高的线形锯切割为主,然后对切割面进行研磨,使其表面平滑。由于切割面是被机械冲击过的,因此会残留结晶变形,使电气特性变坏,因此需用HF+HNO3进行腐蚀,使表面减薄10~20μm的程度。最终得到约为300μm厚的硅片。