硅片表面吸附杂质清洗顺序是什么?

题目
问答题
硅片表面吸附杂质清洗顺序是什么?
参考答案和解析
正确答案: 清洗顺序:去分子-去离子-去原子-去离子水冲洗-烘干、甩干
解析: 暂无解析
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第1题:

如果被吸附的杂质和沉淀具有相同的晶格,就可能形成()。

  • A、表面吸附
  • B、机械吸留
  • C、包藏
  • D、混晶

正确答案:D

第2题:

化学清洗中是利用硝酸的强()和强()将吸附在硅片表面的杂质除去。


正确答案:酸性;氧化性

第3题:

燃油舱清洗的顺序是什么?


正确答案: 1.清洗1号燃油舱。
2.清洗2号油箱舱。
3.清洗4号燃油舱。
4.清洗3号油箱(右).
5.清洗3号油箱(左).

第4题:

洗涤沉淀是为了洗去表面吸附的杂质及混杂在沉淀中的母液。


正确答案:正确

第5题:

固体表面发生化学吸附的原因是什么?表面反应与化学吸附的关系是什么?


正确答案: 发生化学吸附的原因,是由于位于固体表面的原子具有自由价,这些原子的配位数小于固体内原子的配位数,使得每个表面原子受到一种内向的净作用力,将扩散到其附近的气体分子吸附形成化学键 
化学吸附是表面反应的前提。化学吸附的表面物种在二维的吸附层中并非静止不动的,只要温度足够高,它们就成为化学活性物种,在固体表面迁移,随之进行化学反应。表面反应要成功进行,就要求化学吸附不宜过强,也不能过弱

第6题:

例出典型的硅片湿法清洗顺序。


正确答案:硅片清洗步骤:
(1)H2SO4/H2O2(piranha):有机物和金属;
(2)UPW清洗(超纯水):清洗;
(3)HF/H2O(稀HF):自然氧化层;
(4)UPW清洗:清洗;
(5)NH4OH/H2O2/H2O(SC-1):颗粒;
(6)UPW清洗:清洗;
(7)HF/H2O:自然氧化层;
(8)UPW清洗:清洗;
(9)HCL/H2O2/H2O(SC-2):金属;
(10)UPW清洗:清洗;
(11)HF/H2O:自然氧化层;
(12)UPW清洗:清洗;
(13)干燥:干燥。

第7题:

清洗是通过物理、化学方法却除清洗表面可见杂质的过程。


正确答案:正确

第8题:

载体的酸洗主要是为了中和载体表面的碱性吸附点,同时除去载体表面的金属铁等杂质


正确答案:正确

第9题:

涂清洗剂的顺序是什么?


正确答案: 从上到下,即车顶.挡风玻璃.发动机室盖.行李箱盖.车身侧面.灯具.保险杠.车裙.车轮.

第10题:

表面吸附与下列()因素无关。

  • A、杂质浓度
  • B、沉淀的总表面积
  • C、溶液温度
  • D、容器大小

正确答案:D