制备光刻掩膜版,希望黑白区域间的过渡区越大越好。

题目
判断题
制备光刻掩膜版,希望黑白区域间的过渡区越大越好。
A

B

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相似问题和答案

第1题:

随机区组设计要求

A.区组内个体差异越小越好,区组间差异越大越好

B.区组内及区组间的差异都是越小越好

C.区组内没有个体差异,区组间差异越大越好

D.区组内个体差异越大越好,区组间差异越小越好

E.区组内没有个体差异,区组闻差异越小越好


正确答案:A

第2题:

器件的横向尺寸控制几乎全由()来实现。

  • A、掩膜版
  • B、扩散
  • C、光刻

正确答案:C

第3题:

下列关于资产负债率的说法中,正确的是( )。

A.企业的债权人希望企业的自有资金利润率较高时,负债比例越大越好

B.政府希望企业的自有资金利润率较高时,负债比例越大越好

C.经营者希望全部资本利润率低于借款利息率时,负债比例越大越好

D.股东希望全部资本利润率高于借款利息率时,负债比例越大越好


正确答案:D

第4题:

对于控制通道来说希望τ越大越好,而对扰动通道来说希望τ适度小点好。


正确答案:错误

第5题:

随机区组设计要求()。

  • A、区组内个体差异越小越好,区组间差异越大越好
  • B、区组内及区组间的差异都是越小越好
  • C、区组内没有个体差异,区组间差异越大越好
  • D、区组内个体差异越大越好,区组间差异越小越好
  • E、区组内没有个体差异,区组间差异越小越好

正确答案:A

第6题:

光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺()

  • A、刻制图形
  • B、绘制图形
  • C、制作图形

正确答案:A

第7题:

光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。()


正确答案:错误

第8题:

随机区组设计要求

A.区组内个体差异越小越好,区组间差异越大越好

B.区组内及区组间的差异都是越小越好

C.组内没有个体差异,区组间差异越大越好

D.组内个体差异越大越好,区组间差异越小越好

E.区组内没有个体差异,区组间差异越小越好


正确答案:A

第9题:

一般总是希望η越大越好,这样可获得较高的探伤().


正确答案:灵敏度

第10题:

测量电流时希望表头内阻越大越好。


正确答案:错误