光掩膜法成形原理上与光化学加工制备掩膜时原理类似,只是后者制备的掩膜较薄,而非立体零件。

题目
判断题
光掩膜法成形原理上与光化学加工制备掩膜时原理类似,只是后者制备的掩膜较薄,而非立体零件。
A

B

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相似问题和答案

第1题:

器件的横向尺寸控制几乎全由()来实现。

  • A、掩膜版
  • B、扩散
  • C、光刻

正确答案:C

第2题:

掩膜ROM只读存储器的内容是不可以改写的


正确答案:正确

第3题:

能够用紫外光擦除ROM中的程序的只读存储器称为()。

A.掩膜ROM

B.PROM

C.EPROM

D.EEPROM


参考答案:C

第4题:

按照数据写入方式特点的不同,ROM可分为掩膜ROM,(),()。


正确答案:PROM;EPROM

第5题:

80C51含()掩膜ROM。


正确答案:4KB

第6题:

在进行空间分析时,经常设置Mask(掩膜),设置掩膜的作用是什么?


正确答案:掩膜是利用遮盖或隐蔽要素的视觉处理技术来增强地图表现力的一种手段,让地图更加清晰,经常用它来处理多个图层由于叠放而出现压盖冲突的情况。掩膜的实质是包含一些多边形要素的要素类,生成掩膜之后,可用它来掩盖某个或某几个图层,使其在掩膜的位置不显示。

第7题:

能用紫外线光擦除ROM中的程序的只读存储器为()

  • A、掩膜ROM
  • B、PROM
  • C、EPROM
  • D、EEPROM

正确答案:C

第8题:

金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜,带胶蒸发或溅射所需的金属,然后在去除光致抗蚀剂膜的同时,把胶膜上的金属一起去除干净。()


正确答案:正确

第9题:

89C51采用的内部程序存储器是()。

  • A、EPROM
  • B、ROMLess
  • C、Flash
  • D、掩膜ROM

正确答案:C

第10题:

二元掩膜


正确答案: 通过对掩膜片基上的感光胶片进行有控制的曝光和显影获得