光刻技术中的常见问题有那些?

题目
问答题
光刻技术中的常见问题有那些?
如果没有搜索结果或未解决您的问题,请直接 联系老师 获取答案。
相似问题和答案

第1题:

激光蚀刻技术可以分为()

  • A、激光刻划标码技术
  • B、激光掩模标码技术
  • C、红光刻划标码技术
  • D、激光渗透标码技术

正确答案:A,B

第2题:

在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,它的优点在于()。

  • A、CA光刻胶对深紫外光吸收小
  • B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化
  • C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强
  • D、有较高的光敏度
  • E、有较高的对比度

正确答案:A,B,C,D,E

第3题:

2012年国家司法考试网上报名常见问题有那些


你可以登录网上报名网站查询。

第4题:

在移动教学环境中开展自主、合作、探究学习的常见问题有()

  • A、电池续航能力不足
  • B、网络连接不良
  • C、教师技术素养不足
  • D、学生技术素养不足

正确答案:A,B,C,D

第5题:

试分析4次光刻中第2次光刻的工艺方案。


正确答案:在4次光刻中,第二次光刻有源岛和第三次光刻的源漏电极合为一次光刻,为4次光刻的第二次光刻,光刻次数减少,但工艺难度大大增大。
第二次光刻的工艺流程概括为:连续沉积薄膜→涂胶→多段式调整掩膜版曝光→显影→湿法刻蚀→干法刻蚀及灰化→再湿刻和再干法刻蚀。

第6题:

光刻中采用步进扫描技术获得了什么好处?


正确答案:增大了曝光场,可以获得较大的芯片尺寸,一次曝光可以多曝光些芯片,它还具有在整个扫描过程调节聚焦的能力。

第7题:

述5次光刻中第5次像素电极光刻形成的ITO的作用。


正确答案:ITO的作用:
1)TFT处ITO,作像素电极用。与彩膜基板上的共用电极一起形成液晶像素的上下电极,控制液晶分子的旋转实现显示;
2)存储电容上的ITO为存储电容的另一个电极。与第一次光刻的金属电极一起形成了存储电容的上下电极,两个电极之间的介质层为绝缘层和钝化层;
3)外引线处的ITO为栅线和信号线金属的保护层。为防止金属电极直接曝露在大气下氧化,在外引线曝露金属电极的部分覆盖上ITO起到保护的作用。

第8题:

可用光刻-电铸-模铸复合成形技术加工的材料有下面那种?()

A、金属

B、陶瓷

C、玻璃

D、塑料


答案:AD

第9题:

简述7次光刻的第二次光刻中O2灰化的作用。


正确答案:O2灰化是在4层CVD之后阻挡层i/sSiNx膜的上面进行氧气O2等离子体处理,把表面具有亲水性的i/sSiN薄膜变成疏水性的SiOx薄膜,增强与光刻胶的附着性。

第10题:

晶片经过显影后进行坚膜,坚膜的主要作用有()。

  • A、除去光刻胶中剩余的溶剂
  • B、增强光刻胶对晶片表面的附着力
  • C、提高光刻胶的抗刻蚀能力
  • D、有利于以后的去胶工序
  • E、减少光刻胶的缺陷

正确答案:A,B,C,E