第1题：
二氧化硅的制备方法很多，其中最常用的是高温（）、（）淀积、PECVD淀积。
第2题：
简述PECVD设备的特点。
第3题：
制造陶瓷涂层发动机目前最佳的涂层方法是（）
第4题：
简述太阳能电池片制造PECVD的目的及原理？
第5题：
a-Si：H以及合金材料，用（）、热CVD、光CVD等气相生长法可以制造薄膜。
第6题：
简述PECVD薄膜沉积的原理。
第7题：
电池片局部点较正常情况下更亮，此现象为（）
第8题：
质量输运限制CVD和反应速度限制CVD工艺的区别？
第9题：
脑血管疾病(CVD)
第10题：
关于CVD涂层，（）描述是不正确的。