电子束曝光抗蚀剂对离子的灵敏度要比对电子束(),因而可获得更加精细的图样。

题目
填空题
电子束曝光抗蚀剂对离子的灵敏度要比对电子束(),因而可获得更加精细的图样。
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第1题:

奥氏体不锈钢的电子束焊接接头抗晶间腐蚀的能力较弱。

A

B



第2题:

电子束百分深度剂量曲线的高剂量“坪区”的形成原因是()

  • A、电子束无明显建成效应
  • B、电子束的皮肤剂量较高
  • C、电子束的照射范围平坦
  • D、电子束射程较短
  • E、电子束容易被散射

正确答案:E

第3题:

下列5个能量选项中,哪些可能在光刻加工的曝光工艺中应用()

A.电子束

B.离子束

C.激光束

D.超声波

E.等离子体


正确答案:AB

第4题:

按曝光的光源分类,曝光可以分为()。

  • A、光学曝光
  • B、离子束曝光
  • C、接近式曝光
  • D、电子束曝光
  • E、投影式曝光

正确答案:A,B,D

第5题:

高功率密度的电子束加工适于()

  • A、钢板上打孔
  • B、工件表面合金化
  • C、电子束曝光
  • D、工件高频热处理

正确答案:A

第6题:

光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的,曝光后硬化成不可溶解的物质,这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂,由此组成的光刻胶称为负性胶。()


正确答案:正确

第7题:

电子束旋转照射时,X射线治疗准直器的几何尺寸要()电子束照射野的大小。

  • A、小于
  • B、大于
  • C、等于
  • D、接近
  • E、小于等于

正确答案:B

第8题:

电子束焊在实际应用中以真空电子束焊接居多。

A

B



第9题:

激光束经聚焦后,可获得比电子束还高的功率密度。


正确答案:正确

第10题:

描述照射对电子束百分深度剂量的影响,正确的是()

  • A、较高能量的电子束,照射野对百分深度剂量无影响
  • B、较低能量的电子束,照射野对百分深度剂量无影响
  • C、较低能量的电子束,较大照射野对百分深度剂量影响较大
  • D、较高能量的电子束,较大照射野对百分深度剂量影响较大
  • E、较高能量的电子束,较小照射野对百分深度剂量影响较大

正确答案:E