某患者,男,54岁,双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失,设计钻铬合金铸造支架,双侧后腭杆连接,义齿初戴时,发现后腭杆离开组织面2mm,最佳处理方法是 ( )

题目
某患者,男,54岁,双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失,设计钻铬合金铸造支架,双侧后腭杆连接,义齿初戴时,发现后腭杆离开组织面2mm,最佳处理方法是 ( )

A.将后腭杆切割,调整正确位置后焊接
B.腭杆组织面加自凝树脂重衬
C.腭杆组织面缓冲,不做任何处理
D.用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合
E.取印模重新制作支架
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第1题:

某患者,男,54岁,双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失,设计钴铬合金铸造支架,双侧后腭杆连接,义齿初戴时,发现后腭杆离开组织面2mm,最佳处理方法是

A、腭杆组织面缓冲,不做任何处理

B、腭杆组织面加自凝树脂重衬

C、用技工钳调整后腭杆与腭黏膜贴合

D、将后腭杆切割,调整正确位置后焊接

E、取印模重新制作支架


参考答案:E

第2题:

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是

A.不做处理,让患者将义齿戴走

B.腭杆组织面加自凝树脂重衬

C.腭杆组织面缓冲

D.取下腭杆

E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆


正确答案:C
(答案:E)腭杆与粘膜间间隙过大,患者感觉不舒适,且容易嵌塞食物,应取下重新制作。

第3题:

患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是

A、取下腭杆

B、腭杆组织面缓冲

C、腭杆组织面加自凝树脂重衬

D、不做任何处理

E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆


参考答案:E

第4题:

单选题
初戴上颌局部义齿时,发现弯制的后腭杆离开腭粘膜2mm,处理方法是(  )。
A

不必处理

B

腭杆组织面加自凝树脂重衬

C

腭杆组织面缓冲

D

去除腭杆,让患者戴走

E

取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆


正确答案: B
解析: 暂无解析

第5题:

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是()

  • A、取下腭杆
  • B、腭杆组织面做缓冲
  • C、腭杆组织面加自凝树脂重衬
  • D、不做任何处理
  • E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

正确答案:E

第6题:

一患者上颌局部义齿修复。初戴时,发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是

A.不必处理

B.腭杆组织面加自凝树脂重衬

C.腭杆组织面缓冲

D.去除腭杆,让患者将义齿戴走

E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆


正确答案:E

第7题:

某患者,男,54岁,双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失,设计钻铬合金铸造支架,双侧后腭杆连接,义齿初戴时,发现后腭杆离开组织面2mm,最佳处理方法是()。

  • A、腭杆组织面缓冲,不做任何处理
  • B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
  • C、用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合
  • D、将后腭杆切割,调整正确位置后焊接
  • E、取印模重新制作支架

正确答案:E

第8题:

初戴上颌局部义齿时,如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是

A、不必处理

B、腭杆组织面加白凝树脂重衬

C、腭杆组织面缓冲

D、去腭杆,让患者戴走

E、取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆


参考答案:E

第9题:

一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()

  • A、不做处理,让患者把义齿戴走
  • B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
  • C、腭杆组织面缓冲
  • D、取下腭杆
  • E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

正确答案:E

第10题:

单选题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法为(  )。
A

腭杆组织面加自凝树脂重衬

B

不做处理,让患者将义齿戴走

C

腭杆组织面缓冲

D

取下腭杆

E

取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆


正确答案: D
解析:
腭杆与粘膜间间隙过大,患者感觉不舒适,且容易嵌塞食物,应取下重新制作。