RO-5501采用的膜元件的型号是什么?进行在线清洗的条件是什么?

题目

RO-5501采用的膜元件的型号是什么?进行在线清洗的条件是什么?

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相似问题和答案

第1题:

食品加工企业对与食品接触表面清洗消毒的效果进行验证采用的方法是什么?通常主要针对哪些部位来进行?


正确答案: 验证方法:对食品接触表面清洗消毒的效果目测、与食品接触表面样品检测或叫涂抹试验。
包括部位:
1.工人员的手(套)、工作服;
2.加工用案台桌面、刀、筐、案板;
3.加工设备,如:去皮机、单冻机等;
4.加工车间地面、墙面;
5.加工车间、更衣室的空气;
6.内包装物料。

第2题:

工艺站场上采用的在线气体分析仪,“在线”是什么意思? 


正确答案:“在线”的意思是随时采集、随时处理。

第3题:

晶闸管元件导通的条件是什么?


正确答案:晶闸管阳极与阴极之间加正向电压,控制极上加正向触发脉冲电压,导通电流大于晶闸管的维持电流。

第4题:

离线清洗是指,从RO装置取出1支膜元件,采取独立的清洗装置进行后续清洗。


正确答案:正确

第5题:

对反渗透膜元件进行清洗的条件有哪些?


正确答案: 清洗条件应根据制造商提供的清洗导则进行,如果膜制造商未提供清洗导则,则应遵循下列原则,即凡具备下列条件之一的情况,均需要对膜元件进行清洗:
标准渗透水流量下降10%~15%.
标准系统压差增加10%~15%.
标准系统脱盐率下降1%~2%或产品水含盐量明显增加。
已证实有污染和结垢发生。

第6题:

燃机水洗主要采用在线方式进行清洗。()


正确答案:错误

第7题:

第一在线炉启动的初始条件是什么?状态跟踪又是什么?


正确答案: ①第一在线炉启动的初始条件有:克劳斯单元联锁复位;反应炉有火焰BZAL-5001/5002;反应炉空气流量FZLL-5037不低;反应炉空气压力PZHH-5006/5007/5008不高;反应炉空气压降PDZLL-5014不低;反应炉废热锅炉液位LZLL-5003不低;第一在线炉二个瓦斯阀关ZZAL-5020/5023;第一在线炉无火焰BZAL-5003;瓦斯罐液位LZHH-5008不高;瓦斯罐出口压力PZLL-5013不低;点火器缩回ZZAL-5019。
②第一在线炉启动的状态跟踪有:第一在线炉瓦斯流量调节器FIC-5012“手动”输出最小;第一在线炉空气流量调节器FIC-5013“手动”输出最小;装置切断阀开关(辅助操作台上)处于投用位置。

第8题:

可控硅元件导通的条件是什么?


正确答案:阳极与阴极之间加正向电压、控制极上加正向触发脉冲电压

第9题:

采用LPCVD TEOS淀积的是什么膜?这层膜的优点是什么?


正确答案:多晶硅薄膜
用TEOS(正硅酸乙酯)-臭氧方法淀积SiO2 Si(C2H5O4)+8O3 SiO2+10H2O+8CO2
优点:
A.低温淀积;
B.高的深宽比填隙能力;
C.避免硅片表面和边角损伤。

第10题:

采用铜试剂造膜的条件是什么?


正确答案: (1)采用铜试剂造膜,必须先将铜管进行清洗,使其表面清洁,对新铜管不需进行酸洗,但应采用1—2%Na3PO4溶液清洗一次,使铜管表面清洁。
(2)用凝结水配制0.3—0.4%的铜试剂溶液,使其通过铜管进行循环,每循环0.5小时,停留2小时,进行40小时后,将废液排掉。
(3)处理过程中,温度始终保持在55—60℃之间,PH维持在7—10之间。
(4)铜试剂处理完毕,在铜管的外侧加入70—80℃的热水,使管内保护膜烘干后可投入运行。