第1题:
解释正性光刻和负性光刻的区别?为什么正胶是普遍使用的光刻胶?最常用的正胶是指哪些胶?
第2题:
在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,它的优点在于()。
第3题:
光刻胶主要由()等不同材料混合而成的。
第4题:
在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,CA的含义是()。
第5题:
晶片经过显影后进行坚膜,坚膜的主要作用有()。
第6题:
解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么?
第7题:
例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
第8题:
解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低?
第9题:
用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶()。
第10题: