第1题:
什么叫光刻?光刻工艺质量的基本要求是什么?
第2题:
光刻和刻蚀的目的是什么?
第3题:
第4题:
整顿的“三定原则”及“三要素”分别是什么?
第5题:
表演三要素是什么?舞台行动三要素是什么?
第6题:
解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么?
第7题:
彩色三要素分别指()、()、()。
第8题:
在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么?
第9题:
导游工作集体“三成员”和“导游服务”三要素分别是什么?
第10题:
判断题有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。A 对B 错
问答题简述接触式光刻、接近式光刻及投影式光刻的优缺点。
问答题光刻的本质是什么?
问答题光刻胶正胶和负胶的区别是什么?
问答题PN结隔离的双极集成电路工艺需要几次光刻,每次光刻目的是什么?
问答题光刻的作用是什么?
问答题为什么说光刻是IC制造中最重要的工艺?光刻的三个要素是什么?
问答题双极集成电路工艺中的七次光刻和四次扩散分别指什么?
问答题整顿的“三定原则”及“三要素”分别是什么?
问答题光刻和刻蚀的目的是什么?