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SiO2-Si界面的杂质分凝：（）过程中，（）在两种材料中重新分布，（）吸引受主杂质（B）、排斥施主杂质（P、As）。

题目
填空题
SiO2-Si界面的杂质分凝：（）过程中，（）在两种材料中重新分布，（）吸引受主杂质（B）、排斥施主杂质（P、As）。
参考答案和解析
正确答案： 高温,杂质,氧化硅
解析： 暂无解析
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第1题：

特殊杂质

A、药物纯净程度

B、在个别药物生产和贮存过程中引入的杂质

C、药物中所含杂质的最大允许量

D、自然界中存在较广泛在多种药物的生产和贮藏过程中容易引入的杂质

E、杂质本身一般无害但其含量多少可以反映出药物纯度水平


正确答案：B

第2题：

在个别药物生产和储存过程中引入的杂质是指

A.药物纯度

B.特殊杂质

C.杂质限量

D.一般杂质

E.信号杂质


正确答案：B
略

第3题：

在自然界中分布较广泛，在多种药物的生产和贮藏过程中容易引入的杂质称为（ ）

A.特殊杂质

B.一般杂质

C.基本杂质

D.有关杂质

E.有关物质


正确答案：B
一般杂质是指在自然界中分布较广泛，在多种药物的生产和贮藏过程中容易引入的杂质，检查方法收载在《中国药典》附录中。特殊杂质是指在特定药物的生产和贮藏过程中，根据其生产方法、工艺条件及该药物本身性质可能引入的杂质。之所以特殊，是因为它们随药物品种而异，特殊杂质的检查方法分列在质量标准各品种项下。

第4题：

下列不是补锡助焊剂功能的是（）。

  • A、去除母材表面的杂质
  • B、去除焊料的杂质
  • C、增加焊料对母材的湿润性
  • D、冷却母材表面避免温度过高

正确答案:D

第5题：

在个别药物生产和贮存过程中引入的杂质

A.药物纯度
B.特殊杂质
C.杂质限量
D.一般杂质
E.信号杂质


答案：B
解析：

第6题：

在自然界中分布较广泛,在多种药物的生产和贮藏过程中容易引入的杂质称为

A、特殊杂质

B、一般杂质

C、基本杂质

D、有害杂质

E、有关物质


参考答案：B

第7题：

自然界中存在较广泛在多种药物的生产和储藏过程中容易引入的杂质是指

A.药物纯度

B.特殊杂质

C.杂质限量

D.一般杂质

E.信号杂质


正确答案：D
略

第8题：

杂质限量指

A、药物纯净程度

B、在个别药物生产和贮存过程中引入的杂质

C、药物中所含杂质的最大允许量

D、自然界中存在较广泛在多种药物的生产和贮藏过程中容易引入的杂质

E、杂质本身一般无害但其含量多少可以反映出药物纯度水平


正确答案：C

第9题：

自然界中存在较广泛且在多种药物生产和贮藏过程中容易引入的杂质是

A.药物纯度
B.特殊杂质
C.杂质限量
D.一般杂质
E.信号杂质


答案：D
解析：

第10题：

表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。

  • A、分凝度
  • B、固溶度
  • C、分凝系数
  • D、扩散系数

正确答案:C

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