下列扩散杂质源中,()不仅是硅常用的施主杂质,也是锗常用的施主杂质。
第1题:
A、锰
B、硅
C、硫
D、磷
E、氧
第2题:
半导体硅常用的施主杂质是()。
第3题:
第4题:
判断乙炔气中硫.磷等杂质清除效果的常用手段是()
第5题:
对于锗和硅半导体来说,最常用的另一类杂质是()、()和()等元素。这些元素加入后,半导体变成P型半导体了。
第6题:
下列杂质中,属于一般杂质的有
A.氯化物
B.硫酸盐
C.铁盐
D.砷盐
E.重金属
第7题:
对于锗和硅半导体来说,最常用的一类杂质是()、()和()等元素。这些元素加入后,半导体变成N型半导体了。
第8题:
什么是杂质和杂质限量?杂质限量通常用什么表示?
第9题:
PN结空间电荷区是()。
第10题:
在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质,在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源,不再有新的杂质补充,这种扩散方式称为:()